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第211章 国际贸易9（第3页）
“我们就是想的是透过一条细长的狭缝射在基底上”
“来大道曝光”
“一般是一次曝光数行，基底需要挪动位置，使光能将所有的区域都曝光”
“我们设想的工艺节点为180毫米到130毫米”
“在掩膜板上我们想按照掩膜板1:1来”
“进行全尺寸曝光”
“我们还有一种设想就是一种步进重复投影光刻”
“我们工程师想着是使用透镜系统将掩模上的图案在小面积上逐个投影到基底上”
“每次曝光一个小区域后，基底会移动到下一个位置，直到整个基片都被曝光”
“一个曝光区域就是一个shot”
“工程师们考虑到它是通过透镜系统投影”
“所以我们计划使用365nm紫外光时使用的是5倍版”
“也就是掩膜版上图形尺寸是实际光刻胶上的尺寸的5倍”
“所以在掩膜板上我们设想着可以设计更复杂的图形”
“但是这种方式就会增加了棱镜系统的制作难度”
“哈哈这位先生”
“我想你们没有考虑过一种扫描步进投影光刻机”
“扫描步进投影光刻?”
“是的这位先生”
“在高端的半导体制造中一般会用到此种机型”
“他主要是用于0.18毫米工艺”
“这种光刻机在起曝光过程中”
“掩膜版在一个方向上移动，同时晶圆在与其垂直的方向上同步移动”
“这种光刻机的特点就是增大了每次曝光的视场”
“提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性”
“当然正是这些特点，因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求”
“这种通常比其他曝光机具有更高的生产效率，设计和制造都非常复杂”
“那么他的购买和维护成本都将会是很高的”
“高精度双面光刻主要用于”
中小规模集成电路”
“半导体元器件”
“光电子器件”
“声表面波器件”
“薄膜电路”
“电力电子器件的研制和生产”
“这种双面光刻机包括运动控制系统、图像处理系统、系统软件、数据Io处理控制单元。”
啪啪啪啪
全场掌声
“张成先生你讲的对于我们来说实在是打开眼界”
“在你之前我们的光刻机技术就是处于摸索状态”
“我们的设想和你们相比较就差的很多”
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